产品名称：

溅射靶材

可选的溅射材料：

Cr, Co-Ni-Cr, Co-Nb-Zr, ZAO, ITO, Ni-Cr-Si, Cr-Si,

Al, Al-Cu, Al-Si, Al-Si-Cu, WSi₂, Ti, Ti-W

 Ta, Cu, W, , others

产品综述：

我们在美国(Tosoh SMD,Inc.)、日本(Tosoh SMC)设有生产工厂。我们可以提供各种不同的金属及合金、金属陶瓷及陶瓷成分的高纯度的靶材。我们可以按要求提供各种不同形状、大小、纯度等级的靶材。

应用领域：

1．半导体领域： PVD工艺（12”，8”，6”硅片）

2．平板显示面板：PVD 工艺

3.  薄膜太阳能电池：PVD 工艺

4.  磁记录媒介（磁盘及可擦写光碟）、录音磁头、热印打印头以及薄膜电阻等。